该厂为展览顶级半导体材料封口试验厂家，生產方式中出现大规模含光刻胶、光敏树脂等满团伙设计物的工业废水，传统性技术整理结果差，亟需升阶改革。 工业废水特点研究分析 一般危害源： 切割工作研磨抛光生活污水 ：含硅粉、飘浮物（SS>500mg/L） 去胶污水 ：含光刻胶多余物（COD自由高达8000-12000mg/L） 真空电镀电镀废水 ：进样器金、银等贵金屬亚铁离子 洗废污水：含氟化物（50-200mg/L） 改革创新处工院艺 按照"高级的硫化+MBR"结构枝术： 预净化处理模快 ： 旋流悠长岁月中清除大科粒硅粉 有机化学除氟（加药氯化钙出现氟化钙放置） 内在处理摸块 ： Fenton腐蚀（H2O2/Fe2+）细化大碳原子有机化学物（COD消除率60-70%） UASB厌氧发酵发生催化反应器进一大步分解（COD清掉率>80%） MBR膜生物制品响应器（PVDF空心植物纤维膜，钻孔大小0.1μm） 中水回用系統 ： 反固化系统设计产水造纸废水处理于生育线（造纸废水处理率>65%） 进行工作成效 工作左右水质监测相比（标准差）： COD从9500mg/L降落到45mg/L 氟化物从180mg/L减少为8mg/L SS从480mg/L减至5mg/L 装置一键化限度高，一立方米工业污水处理价格较原流程大幅度降低22%，评为省部级洁净分娩规范化活动。